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    Tipos de electrodos de plasma
    La Asociación de la Industria de Semiconductores ( SIA ) representa 90 por ciento de los productos semiconductores producidos en los Estados Unidos . La industria de semiconductores multimillonaria vende millones de diminutos microchips de ordenador , que se crean con electrodos de plasma. Tipos de electrodos de plasma son : acoplamiento de inducción , microondas o radio electrodos de onda . Electrodos de plasma en la parte inferior de los ejes de horno , alcanzan temperaturas superiores a 6.000 grados centígrados . Electrodos de plasma vaporizan metal, que recubre el cobre o silicona formando semiconductores. Electrodos plasma de descarga eléctrica
    electrodos plasma

    liberan corriente eléctrica a través de una sustancia que no conduce la electricidad . Aísla del aire . No conduce la electricidad , pero un campo eléctrico de varios miles de voltios pasado por aire normalmente aislante, crea nitrógeno, oxígeno y otros iones gaseosos. El electrodo de plasma hace que los electrones de carga negativa para romper el nitrógeno u oxígeno y deja a los iones con carga positiva . Los iones y electrones (plasma ) se mueven por separado a través de la alta tensión de la creación de una corriente eléctrica . Plasma conduce la corriente eléctrica.
    Vaccuum Electrodos Plasma

    Vacío arco descargas eléctricas utilizan recubrimientos de plasma en la metalurgia y como las películas de plasma. Los arcos de vacío son de pares de electrodos de alta tensión en una cámara de vacío . El arco eléctrico lleva el plasma ionizado y dirige el arco magnético para recubrir una superficie de microchip . El arco puede ser dirigido con un campo magnético . Microchips recubrimiento con un arco de plasma cargado es un proceso conocido como " deposición de arco vacío. " Metal líquido gotas de pulverización de la superficie de electrodos , que en detrimento de la calidad de la capa delgada de plasma . Las gotas inconsistentes se eliminan de la haz de plasma al obstruir el flujo del arco de plasma entre el electrodo y la superficie del semiconductor . Este proceso se conoce como " deposición de arco filtró al vacío . "
    Corona y descarga luminiscente Electrodos

    descarga eléctrica Corona es una descarga eléctrica no homogénea parcial. Descarga eléctrica Corona es creado por un campo eléctrico de alta tensión de cerca de un electrodo afilado . Corona es una descarga de alto voltaje de corriente baja . Las descargas luminiscentes son varios cientos de voltios y 1 amperio de corriente . La baja corriente ionizada se amplifica en colisión con otras partículas. La amplificación crea electrones secundarios . Las descargas eléctricas también son creados por las ondas de microondas o láser con o sin electrodos.
    Acoplamiento capacitivo electrodos de plasma ( PCC )

    electrodo A plasma acoplado capacitivamente ( CCP ) es en realidad dos electrodos de plasma con poca distancia entre ellos dentro de un reactor . La presión de gas dentro del reactor puede ser inferior a la presión de la atmósfera . Un electrodo de CCP dirige las ondas de radio , por lo general a 13,56 MHz . Un electrodo de plasma está unido a la energía eléctrica , y el otro es el electrodo de tierra . Los electrodos CCP están unidos en paralelo , y el plasma formado de esta manera se acopla capacitivamente de plasma . Plasma acoplado capacitivamente a veces produce la luz , mientras que la generación de plasma con un condensador. Los electrones que bombardean un electrodo se convierten rápidamente cargadas negativamente , y crean actual además de la corriente alterna secundaria de plasma . Un electrodo de corriente directa excita los electrones e iones cargos . Este microproceso deposita una película delgada de plasma sobre un electrodo . Semiconductores de CCP pueden ser grabadas .

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